酸性光亮銅鍍層不亮因素有哪些？

酸性光亮鍍銅是以硫酸銅和硫酸作為基本成分,引入適量添加劑或其他酸銅光亮劑,使鍍液的工藝特性得以改善和提高,并直接獲得鏡面光亮銅層。其廣泛用于裝飾性多層電鍍中間層及印刷線路板鍍銅層,省去機械拋光。

但是,生產中有時會出現鍍層不亮現象。造成這種情況的因素較多,本文將其歸納為如下幾點進行分析。

1.電解質不純

在新配鍍液時所用的普通硫酸銅、硫酸是不純的,如工業硫酸的質量分數≥92.5%,含有很多的鐵和有機雜質,若不進行處理,電鍍時會使鍍層不亮。即便是用試劑級硫酸,如果不處理也會出現這種情況,因為硫酸銅或多或少也有雜質?？稍谏形刺砑恿蛩嶂?/span>,在已溶解的硫酸銅溶液中(pH值為4)加入質量分數為30%的H2O21~2mL/L和活性炭0.5~1.0g/L聯合處理。利用三價鐵的氫氧化物容易沉淀的性質除去鐵雜質;加入活性炭吸附,可以同時消除有機雜質的影響。這樣開始電鍍,就能鍍得光亮銅層。鍍液經長期使用所產生的金屬雜質和有機雜質將越積越多,顯然,該鍍液是不純的。如果不按工藝要求做定期處理,當鐵雜質的質量濃度達到10g/L以上時,電流效率和鍍層亮度明顯下降。

酸性光亮鍍銅液中只要有一價銅存在將造成鍍層不亮。因為電沉積時,由于一價銅總是比二價銅優先析出,所以很容易使鍍層出現粗糙、毛刺,特別是在低電流密度區域鍍不亮,整平能力差。另外,如果鍍液中Cl-過量時,一價銅與Cl-還會生成氯化亞銅沉淀,使鍍液混濁不清而惡化鍍層質量。一價銅是因為某些還原劑帶入而產生的,有時銅陽極鈍化也會產生一價銅。為了消除一價銅的影響,可在每天班前用H2O2按0.25mL/L的體積分數稀釋后加入鍍液中;有時可根據陽極溶解的情況加入適量的硫酸,也能消除一價銅的影響。最好是采用連續過濾生產的辦法,使鍍液更清潔,保持鍍層細致光亮。