一、 高性能堿銅光亮劑性能特點

1． 鍍層光亮平滑，結晶細致，孔隙率??；

2． 電流密度范圍寬闊，覆蓋能力極佳；

3． 雜質容忍度高，易于控制；

4． 適用于鋼鐵、銅、青銅等不同基體的工件，鋅合金壓鑄件尤為適合；

5． 鍍液可用氰化鉀或氰化鈉配制，效果同樣理想。

二、 高性能堿銅光亮劑 操作條件

三、 高性能堿銅光亮劑鍍液配制

1． 注入1/4體積的水于已洗凈的備用缸（或預備槽）中，加入計量所需的氫氧化鈉、氰化鈉，攪拌至完全溶解；

2． 在不斷攪拌下加入所需的氰化亞銅，直至完全溶解，如在此過程中溫度過高，需加入適量的水，使溫度降到50℃左右；

3． 用過濾泵把鍍液濾入清潔的電鍍槽內，加水至所需的水位，攪拌均勻后取樣分析，并調整各成分至所需范圍；

4． 加溫至50℃以上，連續過濾并用波浪狀電解板電解鍍液4小時以上；

5． 加入所需的堿銅添加劑，攪拌均勻后，便可以試鍍。

四、 高性能堿銅光亮劑設備要求

1． 鍍槽：低碳鋼缸襯合適的塑料或其它認可的材料；

2． 溫度控制：可用不銹鋼電熱筆加熱，或其它認可的熱交換器；

3． 循環過濾：過濾泵最少能在一小時內將鍍液過濾四次。

五、高性能堿銅光亮劑作用和補充

氰化亞銅（CuCN）：供給鍍液銅離子的來源，當采用高電流密度時，金屬含量也要提高。電流密度與銅含量、攪拌程度、游離氰化鈉含量、溫度和光亮劑含量等有有關。

氰化鈉（NaCN）：鍍液中的游離氰化鈉取決于銅含量，一般金屬銅與游離氰化鈉之比為3：1。當游離氰化鈉偏低時，低電流密度區會起云霧；當游離氰化鈉偏高時，陰極電流效率降低，上鍍速度慢，同時陰極會有大量氣體產生。

氫氧化鈉(NaOH)：可提高鍍液的導電性。鋅合金電鍍時，宜保持1-3克/升，以免堿度太高而侵蝕鋅合金；鋼鐵件電鍍時，濃度可增加至10克/升。

諾切液：比酒石酸鉀鈉效果好，可減低陽極鈍化，增加陽極電流效率和溶解速度，減少氰化物的使用量，減緩鍍液中碳酸鹽的生成；可提高陰極電流效率，使鍍層細膩光滑，防止粗糙；可降低鍍液受鉻酸污染所引起的問題。通常是每添加5克/升的氰化亞銅，就添加1毫升/升的諾切液或者視陽極溶解狀況適量補充。

HL-3堿銅光亮劑：能使高電流密度區光亮，減低鍍層出現針孔機會。含量偏低時，高電流區光澤不足；含量偏高時，鍍層易在空氣中氧化變色，陽極易鈍化。日常添加按照75－125 毫升/千安培小時補充。

HL-4堿銅光亮劑：與HL-3一起使用時，高低電流密度區同樣光亮。含量偏低時，低電流區光澤不足；含量偏高時，高電流區發暗，鍍層色澤變淺。日常添加按照225－375 毫升/千安培小時補充。

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